###
热喷涂技术:2020,12(2):17-21
←前一篇   |   后一篇→
本文二维码信息
码上扫一扫!
磁控溅射制备钛基薄膜研究进展
(1.中国航发沈阳黎明航空发动机有限责任公司;2.北京科技大学新材料技术研究院,矿冶科技集团有限公司;3.东北大学冶金学院)
Research Progress of Titanium-based Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering
(1.AECC Shenyang Liming Aero-engine Co., Ltd;2.Institute for Advanced Materials and Technology, University of Science and Technology Beijing,BGRIMM Technology Group;3.School of Metallurgy, Northeastern University)
摘要
图/表
参考文献
相似文献
本文已被:浏览 307次   下载 2029
    
中文摘要: 磁控溅射技术是制备钛基薄膜常用的方法。 本文综述了磁控溅射法的基本原理、 特点及方法种类, 并总 结了磁控溅射法制备 TiO2、 TiN、 TiC 薄膜和 Ti 复合薄膜的最新研究进展, 最后展望了磁控溅射技术制备 Ti 基薄 膜的发展方向。
中文关键词: 磁控溅射  钛基薄膜  研究进展
Abstract:Magnetron sputtering technology is a common method for preparing Ti-based thin films. The basic principles, characteristics and types of magnetron sputtering technology are reviewed in this paper. The latest research progress in the preparation of TiO2, TiN, TiC thin films and Ti composite thin films by magnetron sputtering is summarized. Finally, the development direction of Ti-based thin films prepared by magnetron sputtering technology is prospected.
文章编号:     中图分类号:TG174.4    文献标志码:
基金项目:
引用文本:
迟迅,宋长虹,鲍君峰,高陟,任鑫明,马北越.磁控溅射制备钛基薄膜研究进展[J].热喷涂技术,2020,12(2):17-21.
Xun Chi,Changhong Song,Junfeng Bao,Zhi Gao,Xinming Ren,Beiyue Ma.Research Progress of Titanium-based Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering[J].Thermal Spray Technology,202012(2):17-21.

我们一直在努力打
造,精品期刊,传
播学术成果

全国咨询服务热线
010-63299752,9751,9758

杂志文章

杂志信息

联系我们

电话:010-63299752,9751,9758

Email:rptjs@bgrimm.com

邮编:100160

地址:北京市南四环西路188号总部基地十八区23号楼

关注微信公众号