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中文摘要: 采用低压等离子喷涂技术制备了 TaSi2/MoSi2 涂层。 通过 XRD、 SEM 、 EDS 等手段分析了涂层氧化前后
组织结构及相结构。 结果表明， TaSi2/MoSi2 涂层呈现典型的层状结构， 组织结构均匀致密 , 孔隙率为 3.1%； 涂
层由 TaSi2 和 MoSi2 两相组成， 喷涂过程中未发生相结构转变； 空气中 1650℃氧化 30min 后， 涂层表面生成致密
和玻璃态 SiO2 保护膜， 涂层具有良好的自愈合能力 , 表现出良好的高温抗氧化性能。
中文关键词: TaSi2/MoSi2 涂层 低压等离子喷涂 高温抗氧化涂层
Abstract:TaSi2/MoSi2 coating was fabricated by Low Pressure Plasma Spray (LPPS). The chemical composition
and microstructure of the coating was characterized by SEM, XRD and EDS. The results showed that the TaSi2/
MoSi2 coating was dense with low porosity (3.1%) and dense lamellar microstructure. The coating was composed
of hexagonal TaSi2 and MoSi2 phase. A dense and vitreous SiO2 protective film was formed on the coating surface
after oxidation at 1650℃ for 30min. The coating exhibits good self-healing ability and high temperature oxidation
resistance.
文章编号： 中图分类号：TG174.4 文献标志码：
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引用文本：
倪立勇,杨震晓,马康智,文波,曲栋,杨杰.低压等离子喷涂 TaSi2/MoSi2 涂层组织结构及性能研究[J].热喷涂技术,2020,12(3):70-75.
Liyong Ni,Zhenxiao Yang,Kangzhi Ma,Bo Wen,Dong Qu,Jie Yang.Microstructure and Properties of TaSi2/MoSi2 Coating Fabricatedby Low Pressure Plasma Spray[J].Thermal Spray Technology,2020,12(3):70-75.
倪立勇,杨震晓,马康智,文波,曲栋,杨杰.低压等离子喷涂 TaSi2/MoSi2 涂层组织结构及性能研究[J].热喷涂技术,2020,12(3):70-75.
Liyong Ni,Zhenxiao Yang,Kangzhi Ma,Bo Wen,Dong Qu,Jie Yang.Microstructure and Properties of TaSi2/MoSi2 Coating Fabricatedby Low Pressure Plasma Spray[J].Thermal Spray Technology,2020,12(3):70-75.