李碧晗,詹华,李振东,吴佳亿,汪瑞军.偏压参数对多弧离子镀 CrN 薄膜力学性能的影响[J].热喷涂技术,2022,14(1):55~60.
偏压参数对多弧离子镀 CrN 薄膜力学性能的影响
Effect of Bias Parameters on the Mechanical Properties of CrN Films Fabricated by Multi-arc Ion Plating
  
DOI:DOI 10.3969/j.issn.1674-7127.2022.01-007
中文关键词:  多弧离子镀  偏压参数  CrN 薄膜  力学性能
英文关键词:Multi-arc ion plating  Bias parameter  CrN film  Mechanical properties
基金项目:
              
作者单位
李碧晗 中国农业机械化科学研究院集团有限公司
北京金轮坤天特种机械有限公司
詹华 中国农业机械化科学研究院集团有限公司
土壤植物机器系统技术国家重点实验室
李振东 北京金轮坤天特种机械有限公司
吴佳亿 中国农业机械化科学研究院集团有限公司
汪瑞军 中国农业机械化科学研究院集团有限公司
土壤植物机器系统技术国家重点实验室
摘要点击次数: 4
全文下载次数: 6
中文摘要:
      利用研发的多弧离子镀设备在高速钢基材上制备 CrN 薄膜,研究偏压参数对 CrN 薄膜表面形貌和力学性 能的影响。结果表明,在偏压参数幅值增加的过程中,薄膜表面大颗粒的数量和尺寸呈现先减小后增大的变化趋 势,薄膜硬度和结合力均呈现先增大后减小的变化趋势。残余应力随着偏压参数幅值的增加而逐渐增大。
英文摘要:
      The CrN films were prepared on HSS substrates using the developed multi-arc ion plating equipment, and the effects of bias voltage on the surface morphologies and mechanical properties of CrN films were investigated. As the bias voltage increased, the number and sizes of large particles on the surface of the films showed a trend to decline first and then go up, while the hardness and bonding force of the films showed a trend to rise first and then decrease. The residual stress gradually increased with the increase of bias voltage.
查看全文  查看/发表评论  下载PDF阅读器
关闭